公司具备专业的技术指导及安装队伍，可以满足各行各业的标准，进行水处理设备设计、指导、安装及培训，如电子、制药和半导体行业的等。
半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成 品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18兆欧、15MΩ.cm、 10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。
EDI系统与混合离子交换器都是一样的作用，作为超纯水制造的**。由于现代经济高速发展，对环境水平要求也越来越严，对设备的自动化要求也越来越高。EDI系统取代混床将是趋势所在。
电再生混床（EDI系统）是水处理技术上一次革命性的发明。利用膜块两端电压使水中的带电离子移动，并配合离子交换树脂及选择性树脂膜，以加速离子 移动去除，进而达到水的纯化。而离子交换树脂再生所需的氢根（H+）及氢氧根（OH-）则来自于高压电下有水中解离所供给，这样就无需用酸、碱来进行再生 还原。EDI电去离子水设备，超纯水装置，混床超纯水系统，EDI除盐装置，无需再生的高纯水设备，全自动高纯水机，半导体用18兆欧高纯水设备
二、去离子超纯水设备工艺流程：
(水质达到美国ASTM标准，电子部超纯水水质标准（18MΩ/cm，15MΩ/cm，2兆欧/厘米和0.5兆欧四级) 。-
◆原水→原水箱→原水泵→砂过滤器→碳过滤器→软化过滤器→高压泵→保安过滤器→反渗透装置→中间水箱→EDI增压泵→EDI装置→精密过滤器→用水点
◆源水→源水储水箱→增压泵→机械过滤器→活性炭过滤罐→阻垢系统→主机泵→不锈钢保安过滤器→反渗透设备－中间水箱－混床增压泵－阴阳离子交换混床－纯化水箱－核级混床增压泵→精制核能级混床→紫外线杀菌器→0.22U精密过滤器－用水点
◆ 原水箱→原水增压泵→多介质过滤器→铁锰过滤器→软化水设备→反渗透精密过滤器→一级主机泵→一级反渗透净化水装置→二级主机泵→二级反渗透净化水装置→ 纯水箱－EDI增压泵→EDI高纯水装置→紫外线杀菌器－0.22或0.5 μ m精密过滤器(或称保安过滤器)－用水点
三、去离子超纯水设备特点：
1、高纯度效能、水质稳定；
2、运行成本低，操作简单及维护方便；
3、连续运行及再生，可24小时不间断供水；
4、无废水处理问题、无需药品再生及无药品储存问题；
四、去离子超纯水设备产水特性：
产水水质＞16MΩ-cm 回收率 : 90%-95%
五、去离子超纯水设备进水要求：
TEA(含CO2) ＜25mg/L as CaCO3 PH 5-9
硬度 ＜1mg/L as CaCO3 硅 ＜1mg/L
TOC ＜0.5mg/L 余氯 ＜0.05mg/L
六、去离子超纯水设备应用范围：
医药行业生化制品、生命科学，电子行业芯片、半导体、显像管制程用水等需要高纯水的场合。
小水滴水处理公司有雄厚的生产、库存基地，拥有大批专业的工程技术人员，可根据用户实际应用情况，设计制造出相应的EDI系统。